UV光氧化(hua)設備(bei)以二氧化(hua)鈦(tai)作(zuo)為催(cui)化(hua)劑(ji),與(yu)紫外線、空氣接觸反(fan)應(ying)產生(sheng)臭(chou)氧,利用臭(chou)氧對有(you)(you)機(ji)物(wu)(wu)進行氧化(hua)分(fen)解(jie);同時大分(fen)子(zi)有(you)(you)機(ji)物(wu)(wu)在紫外線作(zuo)用下轉(zhuan)化(hua)為小(xiao)分(fen)子(zi)化(hua)合物(wu)(wu)或(huo)者(zhe)發(fa)生(sheng)反(fan)應(ying),生(sheng)成(cheng)水(shui)和二氧化(hua)碳,污染(ran)物(wu)(wu)得到去除。因UV光解(jie)凈化(hua)效率相對較低,為了保(bao)證廢氣能穩定達標排放,在其后增加活性炭···
UV光(guang)氧(yang)(yang)化(hua)(hua)設備以二氧(yang)(yang)化(hua)(hua)鈦作為(wei)催化(hua)(hua)劑,與(yu)紫外線(xian)、空氣接觸反應(ying)產生臭氧(yang)(yang),利用(yong)臭氧(yang)(yang)對有機(ji)物(wu)(wu)進行氧(yang)(yang)化(hua)(hua)分解;同時大分子有機(ji)物(wu)(wu)在(zai)紫外線(xian)作用(yong)下轉(zhuan)化(hua)(hua)為(wei)小分子化(hua)(hua)合物(wu)(wu)或者發生反應(ying),生成水和(he)二氧(yang)(yang)化(hua)(hua)碳(tan),污染物(wu)(wu)得到去(qu)除。
因UV光解凈化效率(lv)相對較低,為(wei)了保證廢(fei)氣(qi)能穩(wen)(wen)定達(da)(da)標排放,在其(qi)后增(zeng)加活(huo)性(xing)炭(tan)吸(xi)(xi)(xi)附(fu)器(qi)作為(wei)最終的(de)把關處理(li),保證油霧顆粒(li)物(wu)和(he)總VOCs等長期穩(wen)(wen)定達(da)(da)標,最終凈化氣(qi)體。因經前處理(li)后,廢(fei)氣(qi)中VOCs的(de)濃度已很低,且顆粒(li)活(huo)性(xing)炭(tan)在吸(xi)(xi)(xi)附(fu)有機物(wu)的(de)同時(shi)吸(xi)(xi)(xi)附(fu)等離子(zi)體,被吸(xi)(xi)(xi)附(fu)的(de)有機物(wu)在活(huo)性(xing)炭(tan)纖維的(de)孔隙內被等離子(zi)體分解,一定程度上延長了活(huo)性(xing)炭(tan)吸(xi)(xi)(xi)附(fu)飽和(he)的(de)時(shi)間和(he)使用壽命。
UV/臭氧系統
UV/臭氧(yang)(yang)的(de)氧(yang)(yang)化反(fan)應為(wei)自由基(ji)型(xing),即液相(xiang)臭氧(yang)(yang)在(zai)光輻(fu)射下會產生羥(qian)基(ji)自由基(ji),與水中的(de)溶解(jie)物(wu)發(fa)生反(fan)應,存在(zai)兩種解(jie)釋:
影響(xiang)因素:
(1)溫(wen)度(du)(du)的(de)影響,溫(wen)度(du)(du)的(de)提(ti)高一(yi)方面提(ti)高了自(zi)(zi)由基(ji)型反(fan)應的(de)速率常數,同時因(yin)降(jiang)低臭氧的(de)溶解度(du)(du)而減少了羥基(ji)自(zi)(zi)由基(ji)產生(sheng),溫(wen)度(du)(du)對本(ben)法去TOC不(bu)產生(sheng)明顯的(de)影響。
(2)初始(shi)(shi)pH值(zhi)的(de)(de)影響,pH值(zhi)的(de)(de)提(ti)高能加(jia)(jia)快(kuai)臭氧(yang)去(qu)除(chu)TOC的(de)(de)速(su)率。初始(shi)(shi)pH值(zhi)的(de)(de)提(ti)高,使臭氧(yang)更(geng)易于分解產生羥基自(zi)由(you)(you)基,這樣加(jia)(jia)快(kuai)了TOC的(de)(de)去(qu)除(chu)速(su)率。隨(sui)著氧(yang)化(hua)過程的(de)(de)進(jin)行,有機碳不斷(duan)降解為無機碳,在酸性(xing)溶液(ye)(ye)中(zhong),這作(zuo)無機碳以二氧(yang)化(hua)碳的(de)(de)形(xing)式逸出;而在堿性(xing)溶液(ye)(ye)中(zhong)則以離子的(de)(de)形(xing)式繼續存(cun)在于溶液(ye)(ye)中(zhong),這兩種離子都是(shi)很強的(de)(de)羥基自(zi)由(you)(you)基清除(chu)劑,必然(ran)降低了本法去(qu)TOC的(de)(de)速(su)率。
(3)羥(qian)基(ji)自由基(ji)清(qing)除劑(ji)的影響,碳(tan)酸根(gen),碳(tan)酸氫根(gen)等的存在必然會(hui)削弱(ruo)TOC的去除效果。 雖然碳(tan)酸根(gen)本身(shen)也(ye)是一(yi)種氧化(hua)劑(ji),但是它的氧化(hua)電位比羥(qian)基(ji)自由基(ji)小,氧化(hua)能(neng)力不如羥(qian)基(ji)自由基(ji)。